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蒂姆(北京)新材料科技有限公司
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高纯铝颗粒 5N科研实验北京添加料
高纯铝颗粒 5N科研实验北京添加料
2020年09月22日
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北京 丰台区
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铝颗粒 铝粒 5N铝颗粒
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铝,银白色轻金属,有延展性。商品常制成棒状、片状、箔状、粉状、带状和丝状。在潮湿空气中能形成一层防止金属腐蚀的氧化膜。铝粉和铝箔在空气中加热能猛烈燃烧,并发出眩目的白色火焰。易溶于稀硫酸、硝酸、盐酸、氢氧化钠和氢**溶液,难溶于水。航空、建筑、汽车三大重要工业的发展,要求材料特性具有铝及其合金的独特性质,这就大大有利于这种新金属铝的生产和应用,应用极为广泛。
一,物理性质
化学符号:Al 外 观:银白色
原 子 量:26.98154 a
蒸发温度:1220℃
密 度:2.7g/cm3
熔 点:660℃
沸 点:2467℃
汽化温度:1082℃
电 阻 率/μΩ•cm:2.66
电阻温度系数/℃-1:4.20×10-3
溶 解 于:氢氧化钠,碱类,稀硝酸
蒸发方式:钨丝或钼舟
蒸发源材料(丝、片):W
坩 埚:BN、TiC/C、TiB2-BN
性 能:铝膜从紫外区到红外区具有平坦而且很高的反射率,铝膜对基地的附着力比较强,由于铝膜表面总是存在着一层透明的Al2O3薄膜的保护,所以铝膜的机械强度和化学稳定性都比较好。通常真 空蒸发制备的铝膜呈银灰色,但有时也呈黑色。蒸发源为电子枪,基地为氧化硅薄膜(100nm厚),蒸镀铝料的纯度为99.999%。合金及相湿、钨多股绞合较好;加工性能好,可加工成任意形状;
应 用:保护膜,反射膜,增透膜用 途:超纯铝用于制造光电子存储媒体;作为集成电路的配线;
二,主要产品
1.铝 靶材 99.99%~99.999%(点击查看详情)
常规尺寸:φ25.4*4mm;φ50.8*3mm;φ76.2*5mm;φ100*3mm,尺寸可定做
应用:磁控溅射镀膜,MEMS集成电路、LED封装等
2.铝 颗粒 99.99%~99.999%(点击查看详情)
常规尺寸:5N 3*3mm;4N 6*6mm,尺寸可定做
应用:蒸发镀膜,合金熔炼,钢铁除氧剂等
3.铝 箔片 99.99%~99.999%
常规尺寸:厚度0.01mm;0.2mm等,尺寸可定做
应用:AAO阳极氧化铝,镀膜等
4.铝 粉末 99.7%~99.8%
常规尺寸:100目;-300目;325目;尺寸可定做
应用:粉末冶金等
5.铝 丝/棒材 99.99%~99.999%
常规尺寸:φ1mm;φ3mm;φ10mm等,尺寸可定做
应用:蒸发镀膜,合金熔炼,力学分析等
更多产品可咨询客服人员 010-56073481。
铝,银白色轻金属,有延展性。商品常制成棒状、片状、箔状、粉状、带状和丝状。在潮湿空气中能形成一层防止金属腐蚀的氧化膜。铝粉和铝箔在空气中加热能猛烈燃烧,并发出眩目的白色火焰。易溶于稀硫酸、硝酸、盐酸、氢氧化钠和氢**溶液,难溶于水。航空、建筑、汽车三大重要工业的发展,要求材料特性具有铝及其合金的独特性质,这就大大有利于这种新金属铝的生产和应用,应用极为广泛。
一,物理性质
化学符号:Al 外 观:银白色
原 子 量:26.98154 a
蒸发温度:1220℃
密 度:2.7g/cm3
熔 点:660℃
沸 点:2467℃
汽化温度:1082℃
电 阻 率/μΩ•cm:2.66
电阻温度系数/℃-1:4.20×10-3
溶 解 于:氢氧化钠,碱类,稀硝酸
蒸发方式:钨丝或钼舟
蒸发源材料(丝、片):W
坩 埚:BN、TiC/C、TiB2-BN
性 能:铝膜从紫外区到红外区具有平坦而且很高的反射率,铝膜对基地的附着力比较强,由于铝膜表面总是存在着一层透明的Al2O3薄膜的保护,所以铝膜的机械强度和化学稳定性都比较好。通常真 空蒸发制备的铝膜呈银灰色,但有时也呈黑色。蒸发源为电子枪,基地为氧化硅薄膜(100nm厚),蒸镀铝料的纯度为99.999%。合金及相湿、钨多股绞合较好;加工性能好,可加工成任意形状;
应 用:保护膜,反射膜,增透膜用 途:超纯铝用于制造光电子存储媒体;作为集成电路的配线;
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常规尺寸:φ25.4*4mm;φ50.8*3mm;φ76.2*5mm;φ100*3mm,尺寸可定做
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2.铝 颗粒 99.99%~99.999%(点击查看详情)
常规尺寸:5N 3*3mm;4N 6*6mm,尺寸可定做
应用:蒸发镀膜,合金熔炼,钢铁除氧剂等
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常规尺寸:厚度0.01mm;0.2mm等,尺寸可定做
应用:AAO阳极氧化铝,镀膜等
4.铝 粉末 99.7%~99.8%
常规尺寸:100目;-300目;325目;尺寸可定做
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5.铝 丝/棒材 99.99%~99.999%
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infomaterial@163.com
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北京市丰台区南四环西路128号院4号楼12层1515-1516(园区)
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